研究比较多种工艺参数对传输损耗的影响，为后续器件设计提供依据。
不回避实验中的不确定性
研究人员比较不同刻蚀与退火参数制备的波导样品，用同一套耦合装置测量传输损耗。
阶段数据表明侧壁粗糙度是当前主要影响因素，个别样品的异常结果已回到工艺记录中复查。
把发现带回教学与研究
后续将集中调整刻蚀窗口，并开展器件级验证。
本项工作由物理与光电学院教师、本科生与相关专业伙伴共同推进。团队将在保留原始记录的基础上继续复核，使“低损耗集成光波导研究获得阶段性数据”不只停留在一次展示，而能成为后续研究和课程实践的起点。